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IC mask design : essential layout techniques / Christopher Saint, Judy Saint.
Idioma: Inglés Editor: New York : McGraw-Hill, 2002Descripción: 1 online resource (xviii, 457 pages) : illustrationsTipo de contenido:- texto
- computadora
- recurso en línea
- 9780071389969
- 621.3815 21
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Sede Quito | Col General | 621.3815 (Navegar estantería(Abre debajo)) | Disponible | Ebook00188 |
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